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硅片的清洗腐蚀 太阳电池制造的关键工序之一 目的和原理 利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用 去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层 同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性 争取表面较低反射率较低的表面织构 步骤 九步法 第一步粗抛光去掉硅片的损伤层 第五步是通过盐酸中和残余的氢氧化钠 化学反应方程式为 第七步氢氟酸络合掉硅片表面的二氧化硅层 化学反应方程式为 注意事项 在工序1中氢氧化钠溶液与硅片反应时会有碱蒸气产生 故设备运行时请关闭有机玻璃门 盐酸是挥发性强酸 不要去闻其味道氢氟酸会腐蚀玻璃 故不与玻璃器械接触 也不要去闻氢氟酸的味道 如果酸或碱不小心溅入眼内或溅到脸上 请立即打开洗脸洗眼池上盖冲洗
