低温UV固化系统及超快红外线固化系统介绍

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1、S Shanghai hanghai PaTorrPaTorr 安辉安辉 Harry Harry 上海帕乇上海帕乇 Printing ElectronicsPrinting Electronics 如果你要性價比最高的低溫UV燈 氙氣脈衝光是你唯一選擇 如果你要低於40度以下的便宜UV光 氙氣脈衝光是你唯一選擇 如果你要面光源均勻度 90 的UV光 氙氣脈衝光是你唯一選擇 如果你要廣頻譜UV光 非單一波長 氙氣脈衝光是你唯一選擇 氙氣脈衝光技術 電 光轉換效率約50 高壓金屬汞燈 電 光轉換效率約600 2 複雜冷卻系統 4 難以控溫 溫度 60 3 Shutter設計 造成能量不均 LOCA

2、 實際應用於壓克力系與矽膠系LOCA膠 獲客戶應用且每台設備幫客戶省下20KW能源 UV Type OCA 實際應用於UV固化型OCA膠 獲客戶認證使用於曲面觸控貼合應用 Hybrid LOCA 實際應用於Hybrid LOCA膠預固製程 獲國際頂尖品牌大廠認證使用於觸控產品 Slot die Coating Pre cure Lamination Main cure 照射後基板溫度遠低於照射後基板溫度遠低於40度度 低溫熱固化與金屬燒結 技術原理 Xenon 世界最先進的脈衝式Xenon光源技術 adphos adphos為來自德國的專業近紅外線製造商 Adphos為全球唯一一家可以提供Pe

3、ak波長在800nm的技 術領先者 應用 Touch Panel金屬網 Metal Mesh 低溫快速燒結 印刷電子 RFID印刷線路低溫快速燒結 奈米銀 Nano Silver 材料低溫快速燒結 特色 Metal Mesh 燒結速度極快 奈米材料燒結僅需0 001秒 瞬間高溫燒結 瞬間金屬材料溫度可達200 300度 電性改善顯著 可讓材料阻抗降低達數百倍 依材料特性 而異 連續脈衝光燒結技術 銀漿固化僅需要5秒 適用於微米 奈米銀漿 高能脈衝光燒結技術 銀漿固化僅需要0 001秒 適用於奈米銀漿 超快紅外線乾燥技術 Ultrafast IR 銀漿固化僅需要2秒 適用於微米 奈米銀漿 銀漿固

4、化僅需要5 10秒 適用於微米 奈米銀漿 適用於微米 奈米銅漿 原理 利用高強度約100KW瞬間能量讓銀粒子吸光轉熱達到 約150度高溫 利用銀粒子的高溫將Binder與Solvent加熱反應 進而 可以在短時間內達到銀漿固化目的 燒結後基板溫度 常溫 銀漿固化僅需要0 001秒 適用於奈米銀漿 適用於奈米銀漿 原理 利用高強度約400KW瞬間峰值能量讓奈米銀粒子吸光 轉熱達到約250 300度高溫 利用奈米銀粒子可於250度熔融的特性進而讓奈米銀粒 子瞬間融化燒結固化 達到低溫燒結之目的 燒結後基板溫度 常溫 銀漿固化僅需要2 10秒 適用於微米 奈米銀漿 適用於微米 奈米銅漿 原理 Ult

5、rafast IR即Near Infrared近紅外線的簡稱 Ultrafast IR Wavelength 500 1500nm 波峰落在800nm 全球唯一 PET與Paper在近紅外線為不吸收波段 因此利用Ultrafast IR技術 短時間固化銀漿 短時間內基板溫度都可以維持在低溫狀態 燒結後基板溫度 40 60度 25 Substrate MOS Tech 便條紙 Ag Ink 30 50nm particle Ag ink 利機 Curing Time 2 Sec 28 Ultrafast IR 10sec 3 5 Ultrafast IR 2sec 3 5 After Ultra

6、fast IR sintering the end to end resistance is around 3 5 2s can finish the sintering process Ink Jet Printing of Ink Jet Printing of nanonano silver inks on silver inks on PET PaperPET Paper hot air oven 10 min 70 C 20 min 150 C midwave IR 1 min up to 150 C Ultrafast IR 1Ultrafast IR 1 4 s up to 25

7、0 4 s up to 250 C coating andC coating and 120 120 C at substratesC at substrates PEDOT PANI PEDOT PANI ProcessingProcessing Hot plate 10 min 140 C Ultrafast IR 5s up to 200 C Silver paste on PET 100um substrate 設備設備距離距離輸送帶速度輸送帶速度能量能量線電阻線電阻 RFID 變形狀況變形狀況 OVEN120 30min26 PASS Ultrafast IR252 2 1KW 3L

8、amp 20cm1 m min 40 43 NGPASS 100 28 PASSPASS 預固時間僅需預固時間僅需5米 分 Toyobo 熱固銀漿 速度 5米 分 台灣利機銀漿 速度 5米 分 所有的市售熱固銀漿 速度 5米 分 日本十條油墨 白 for plastic 速度 5米 分 日本十条油墨 黑 for plastic 速度 5米 分 水滴乾燥 速度 5米 分 PEDOT PSS 速度 5米 分 觸控面板用黑框油墨 速度 5米 分 鍵盤用銀漿 速度 5米 分 烤漆浪板快速烘乾 汽車烤漆表面光油修補快速乾燥 HP Kodak Ricoh高速印刷機乾燥 Fujifilm Diamtix R2R機台 銀漿乾燥 Silver nanoparticle piezoresistive sensors 參考附件 paper TiO2 film乾燥 參考附件paper AFP 抗指紋膜spray後乾燥 光阻硬烤 寶特瓶吹瓶加熱

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