ht型荧光分析仪

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1、HT-992型荧光分析仪使用说明书 目 录 第一章 主要用途和特点 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - 3 第二章 主要技术性能和功能 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - 3 第三章 简要工作原理 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - 4 第四章 数据采集与处理软件的使用说明 - - - - - - - - - - - - - - -7 第五章 安装方法及ADC卡的使用 - - - - - - -

2、- - - - - - - - - - - -12 附 录 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -14 一、 主要用途和特点 本产品设计新颖,使用方便,稳定可靠.整个测量系统不需要NIM机箱.模数变换器(ADC)和接口(PHA)做成一块计算机专用卡插入微机ISA扩展槽内,板卡的存在不影响计算机的通用性,线性放大器和高压电源装在一个精致的金属盒内,所以整个硬件非常简洁所用计算机可用北大方正、联想、清华同方、实达、金长城等相兼容的任何型号的微机.本产品为定型产品. 二、X荧光分析基本

3、原理 以一定能量的光子、电子、原子、粒子或其它离子轰击样品,将物质原子中的内壳层电子击出,产生电子空位,原子处于激发态.外壳层电子向内壳层跃迁,填补内壳层电子空位,同时释放出跃迁能量,原子回到基态.跃迁能量以特征X射线形式释放,或能量转移给另一个轨道电子,使该电子发射出来,即俄歇电子发射.测出特征X射线能谱,即可确定所测样品中元素种类和含量.当原子中K层电子被击出后,L层或M层的电子填补K层电子空位,同时以一定几率发射特征X射线.LK产生的X射线叫K系,L层有三个子壳层,允许跃迁使K系有二条谱线K1和K2.MK产生的X射线叫K系,M层有五个子壳层,允许跃迁使K有K1,K3,K5三条谱线.当原子

4、中L层电子被击出后,ML跃迁产生的X射线叫L系.特征X射线的能量为两壳层电子结合能之差,即 EK=BK-BL EK=BK-BM EL=BL-BM所有元素的K,L系特征X射线能量在几千电子伏到几十千电子伏之间.X荧光分析中激发X射线的方式一般有三种:(1)用质子、粒子等离子激发;(2)用电子激发;(3)用X射线或低能射线激发.用质子激发特征X射线的分析技术(常记为PIXE)是几种激发方式中分析灵敏度最高的,相对灵敏度达10-6-10-7g/g,绝对灵敏度可达10-9-10-16g,而且可以将质子来聚焦、扫描,对样品作微区分析.用电子来激发(常记为EIX),目前主要用在扫描电镜中.与PIXE相比,

5、电子激发引起的轫致辐射本底比质子激发大,影响分析灵敏度,一般比PIXE低2-3个数量级.另外这种激发方式不能在空气中进行,只适用于薄样品.用X射线或低能射线激发(记为XIX),常用X光管,放射性同位素作为激发源.这类激发用射线不能聚焦;分析灵敏度亦稍低,相对灵敏度一般为10-5-10-6g/g,绝对灵敏度约为10-7-10-8g,低于PIXE的灵敏度.最近,用同步加速器环形加速的轨道电子的强电磁辐射作激发源,波长范围从软X线至电磁波,连续可调,强度很大,有些状态下,准直性极好,可能很有发展前途.作为学生近代物理实验,激发源选用放射性同位素源是适宜的,这样整套仪器轻巧、成本价廉.可选用的有55F

6、e、238Pu、109Cd、241Am、57Co、153Gd等.其中238Pu 衰变后发射的234U的LX射线,其能量为11.6-21.7keV.238Pu的半衰期为87.7年.从安全性、适用性、经济性考虑,238Pu较适合学生实验选用.XIX技术中,入射光子除与样品中原子发生光电作用产生内壳层空位外,还可以发生相干散射和非相干散射(康普顿散射),这些散射光子进入探测器,形成XIX分析中的散射本底.另外,样品中激发出的光电子又会产生轫致辐射,但这产生的本底比散射光子本底小得多,且能量也较低,一般在3keV以下.所以XIX能谱特征是:特征X射线峰叠加在散射光子峰之间的平坦的连续本底谱上.如图1能

7、谱示意图所示1.a峰是相干散射光子峰,b是康普顿散射光子峰,c是特征X射线峰,d是散射光子在探测器中的康普顿边缘.X射线能量(任意单位)图1 光子激发的特征X射线能谱示意图(假定样品基体由轻元素组成)测量特征X射线常用Si(Li)探测器,它的能量分辨率高,适用于多元素同时分析,也可选用Ge(Li)或高纯Ge探测器,但均价格昂贵.在X荧光分析中,对于轻元素(一般指Z45的元素),因其KX射线能量较高且比LX射线强度弱,常测其LX射线,这样测量的特征X射线能量一般在20keV以下.正比计数管在此能量范围,探测效率较高,其能量分辨率虽比Si(Li)探测器差,但远好于NaI(TI)闪烁探测器,质量好的

8、正比管5.89keV处分辨率优于15%,能满足学生实验的需要.用正比计数管作探测器的X荧光分析系统如图2所示.为防止探测系统中脉冲叠加,除适当选择放射源强度外,前置放大器和主放大器要有抗堆积措施.多道分析器道数取1024道较适宜作多元素同时分析,数据可由计算机获取和处理.三 实 验图2 实验装置示意图(1) X荧光分析仪的能量、效率刻度仪器在实测样品前需要作能量和效率标定.常用的方法有两种:a.用标准X射线源进行校刻.即用一组射线能量和强度已知的源,探测器对其张一固定立体角,在固定时间内测出对应能量的X射线峰和计数,作出能量效率校正曲线.常用的校刻标准源及其K X射线能量是54Mn(5.41k

9、eV)、55Fe(5.90keV)、57Co(6.4keV)、65Zn(8.05keV)、85Sr(13.39keV)、88Y(14.16keV)、57Co(14.4keV ).b. 用标准样品进行校刻.可以选一组特征X射线峰相隔较远,峰不重迭的元素,以不同的相对含量制成一组样品,在与测试样品相同的几何条件下,测出各元素的特征X射线峰所在的道址和相应的计数.由特征X射线能量数据表查出标样中各元素特征X射线的能量,作出能量一道址曲线和相对含量特征峰强度曲线.(2) 样品测量图3、图4分别为用图2所示仪器测得的锶铁氧体和铅锌矿样品的XIX能谱.X荧光分析可以同时测出样品中所含元素种类和各元素绝对或

10、相对含量.所含元素种类可以由测出的特征X射线能量与已知的各元素特征X射线能量值相对照识别出来.元素绝对含量可由下式计算:图3 锶铁氧体的XIX能谱图4 铅锌矿样品的XIX能谱 W=其中Ni为所测元素的一个特征峰计数(扣除本底后的峰面积),A为该元素的原子量,n0为入射粒子数,i为特征X射线产生截面,i表示KX射线或LX射线,i为探测该特征峰处的效率、T为该特征X射线在样品中的透射率,对薄样品近似为1.N0为阿伏伽德罗常数,为探测器对样品所强立体角.样品中A、B两种元素的含量比可由下式计算:样品中元素的含量亦可以根据前述标准样品测得的定标曲线,用同样测试时间比较测出.对峰重迭的谱,需要用曲线(常

11、用高斯线)拟合法,算出峰面积Ni、Nj.(3) “光电吸收限”的应用图5给出了部分元素光电截面与光子能量的关系.光电截面有强烈的图5 光电截面与光子能量的关系吸收限,利用这一 图5 光电截面与光子能量的关系特点,可选用合适的吸收物质来抑制某种元素的特征X射线强度,从而比较明显地测出原被淹没的元素的特征X射线峰.例如,某一近10种元素的样品中Fe和Zn的含量较高,而Mn和Cu含量较低.为提高对Cu、Mn的分析精度,分别在特征X射线进入探测器的光路上放置Cr和Ni吸收片.Cr的吸收限是5.99keV,Fe的K1线是6.40keV,被Cr吸收片吸收,谱中Fe峰削弱,而Mn的K1线是5.89keV,不

12、会被Cr吸收,因此谱中原被Fe峰淹没的Mn峰显出来.同样Ni吸收限为8.33keV,Zn的K1线是8.62keV,被吸收而Cu峰显出来.(4) 验证莫塞茉定律1913年莫塞莱(H.G.J.Moseley)发现元素的特征X射线频率与原子序数Z有下列关系:式中A、B是常数;对一定范围内的元素,A、B不随Z改变.用数种纯金属样品,测出它们的特征X射线能量验证上述关系.(5) 研究X射线的吸收用纯金属放在样品位置,激发出一定能量的特征X射线.用多道分析器的上、下阈卡去散射光子峰,留下特征X射线峰,固定测量时间,在特征X射线到探测器的光路上放置同种材料,厚度不同的吸收片;再换放厚度相同、材料不同的吸收片,分别测出固定时间内的计数.在样品位置换放另外的纯金属,以改变特征X射线能量,重复上述测试步骤.得出I=I0e-d,质量吸收系数与吸收片的原子序数Z和X射线能量Ex有关,对各种元素,随Ex增大而减小,但在吸收限处有跳变的结论.参考文献:1 E.P.Bertin, Principles and Practics of X-ray Spectrometric Analysis, pp.89, Plenum press, New York, 1975.8 / 8

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