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微系統實驗室 SPUTTER簡介 簡介 l本實驗室之ARC連續薄膜沉積系統是能控制桌 面最佳鍍膜的完備處理裝置，是一台小巧結實 並易於使用的系統。使用前一定要閱讀操作手 冊，並依操作手冊使用。特別注意維護及操作 部分，若無依循使用手冊進行實驗，會導致儀 器損壞。煩請大家多多配合！ 系統概觀 l此ARC-12M包含了一個渦輪分子Pump的真空系 統，以及三個平面磁控管濺鍍Source(兩英吋1 個、四英吋2個)；13個DC電源供應器；一個 IBM的PC微處理控制系統；一個電源控制和表 面電子裝配；和一個真空控制電子裝配。 l實驗時可以選擇DC或RF的電源供應，而電源和 真空系統完全由電腦控制。 l電源設定對兩英吋範圍0250瓦特，四英吋範 圍01000瓦特。 l基本壓力設定從10-7 到10-4 torr。操作壓力 設定在199mtorr！
