扫描电镜工作原理及其构造解读

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1、 扫描电子显微分析与电子探针 第一节 扫描电子显微镜工作原理及构造 p一、工作原理 图10-1 扫描电子显微镜原理示意图 二、构造与主要性能 p扫描电子显微镜由电子光学系统(镜筒)、偏转系统、信号检测放大系 统、图像显示和记录系统、电源系统和真空系统等部分组成 1电子光学系统 p由电子抢、电磁聚光镜、光栏、样品室等部件组成。 p作用:获得扫描电子束,作为使样品产生各种物理信号的激发源。 图10-2 电子光学系统示意图 表10-1 几种类型电子枪性能比较 2偏转系统 p作用:使电子束产生横向偏转,包括用于形成光栅状扫描的扫描系统 ,以及使样品上的电子束间断性消隐或截断的偏转系统。 p偏转系统可以

2、采用横向静电场,也可采用横向磁场。 3信号检测放大系统 p作用:收集(探测)样品在入射电子束作用下产生的各种物理信号,并 进行放大。 p不同的物理信号,要用不同类型的收集系统。 p闪烁计数器是最常用的一种信号检测器,它由闪烁体、光导管、光电 倍增管组成。具有低噪声、宽频带(10Hz1MHz)、高增益(106)等 特点,可用来检测二次电子、背散射电子等信号。 4图像显示和记录系统 p作用:将信号检测放大系统输出的调制信号转换为能显示在阴极射线 管荧光屏上的图像,供观察或记录。 5电源系统 p作用:为扫描电子显做镜各部分提供所需的电源。 p由稳压、稳流及相应的安全保护电路组成 6真空系统 p作用:

3、确保电子光学系统正常工作、防止样品污染、保证灯丝的工作 寿命等。 SEM的主要性能 p(1)放大倍数 p可从20倍到20万倍连续调节。 p(2)分辨率 p影响SEM图像分辨率的主要因素有: p 扫描电子束斑直径 ; p 入射电子束在样品中的扩展效应; p 操作方式及其所用的调制信号; p 信号噪音比; p 杂散磁场; p 机械振动将引起束斑漂流等,使分辨率下降。 p(3)景深 pSEM(二次电子像)的景深比光学显微镜的大,成像富有立体感。 表10-2 扫描电子显微镜景深 第二节 像衬原理与应用 p一、像衬原理 p像的衬度就是像的各部分(即各像元)强度相对于其平均强度的变化。 pSEM可以通过样

4、品上方的电子检测器检测到具有不同能量的信号电子 有背散射电子、二次电子、吸收电子、俄歇电子等。 1二次电子像衬度及特点 p二次电子信号主要来自样品表层510nm深度范围,能量较低(小于 50eV)。 p影响二次电子产额的因素主要有: p(1)二次电子能谱特性; p(2)入射电子的能量; p(3)材料的原子序数; p(4)样品倾斜角。 二次电子像的衬度可以分为以下几类: p(1)形貌衬度 p(2)成分衬度 p(3)电压衬度 p(4)磁衬度(第一类) 右图为形貌衬度原理 二次电子像衬度的特点: p(1)分辨率高 p(2)景深大,立体感强 p(3)主要反应形貌衬度。 p什么是最小衬度? ZnO 水泥

5、浆体断口 2背散射电子像衬度及特点 p影响背散射电子产额的因素有: p(1)原子序数Z p(2)入射电子能量E0 p(3)样品倾斜角 图10-6 背散射系数与原子序数的关系 背散射电子衬度有以下几类: p(1)成分衬度 p(2)形貌衬度 p(3)磁衬度(第二类) 背散射电子像的衬度特点: p(1)分辩率低 p(2)背散射电子检测效率低,衬度小 p(3)主要反应原子序数衬度 二次电子运动轨迹 背散射电子运动轨迹 图10-7 二次电子和背散射电子的运动轨迹 二、应用 p1断口形貌观察 p2显微组织观察 p3其它应用(背散射电子衍射花样、电子通道花样等用于晶体学取 向测定) 第三节 电子探针X射线显

6、微分析(EPMA) pEPMA的构造与SEM大体相似,只是增加了接收记录X射线的谱仪。 pEPMA使用的X射线谱仪有波谱仪和能谱仪两类。 图10-17 电子探针结构示意图 一、能谱仪 p能谱仪全称为能量分散谱仪(EDS) p目前最常用的是Si(Li)X射线能谱仪,其关键部件是Si(Li)检测器, 即锂漂移硅固态检测器,它实际上是一个以Li为施主杂质的n-i-p型 二极管。 图10-18 Si(Li)检测器探头结构示意图 p以Si(Li)检测器为探头的能谱仪实际上是一整套复杂的电子学装 置。 图10-19 Si(Li)X射线能谱仪 Si(Li)能谱仪的优点: p(1)分析速度快 能谱仪可以同时接

7、受和检测所有不同能量的X射线光 子信号,故可在几分钟内分析和确定样品中含有的所有元素,带铍窗 口的探测器可探测的元素范围为11Na92U,20世纪80年代推向市场 的新型窗口材料可使能谱仪能够分析Be以上的轻元素,探测元素的范 围为4Be92U。 p(2)灵敏度高 X射线收集立体角大。由于能谱仪中Si(Li)探头可以放 在离发射源很近的地方(10左右),无需经过晶体衍射,信号强度几 乎没有损失,所以灵敏度高(可达104cps/nA,入射电子束单位强度所 产生的X射线计数率)。此外,能谱仪可在低入射电子束流(10-11A)条 件下工作,这有利于提高分析的空间分辨率。 p(3)谱线重复性好。由于能

8、谱仪没有运动部件,稳定性好,且没有聚焦 要求,所以谱线峰值位置的重复性好且不存在失焦问题,适合于比较 粗糙表面的分析工作。 能谱仪的缺点: p(1)能量分辨率低,峰背比低。由于能谱仪的探头直接对着样品,所 以由背散射电子或X射线所激发产生的荧光X射线信号也被同时检测 到,从而使得Si(Li)检测器检测到的特征谱线在强度提高的同时,背 底也相应提高,谱线的重叠现象严重。故仪器分辨不同能量特征X射 线的能力变差。能谱仪的能量分辨率(130eV)比波谱仪的能量分辨 率(5eV)低。 p(2)工作条件要求严格。Si(Li)探头必须始终保持在液氦冷却的低温 状态,即使是在不工作时也不能中断,否则晶体内L

9、i的浓度分布状态 就会因扩散而变化,导致探头功能下降甚至完全被破坏。 二、波谱仪 p波谱仪全称为波长分散谱仪(WDS)。 p在电子探针中,X射线是由样品表面以下m数量级的作用体积中激发 出来的,如果这个体积中的样品是由多种元素组成,则可激发出各个 相应元素的特征X射线。 p被激发的特征X射线照射到连续转动的分光晶体上实现分光(色散), 即不同波长的X射线将在各自满足布拉格方程的2方向上被(与分光晶 体以2:1的角速度同步转动的)检测器接收。 波谱仪的特点: p波谱仪的突出优点是波长分辨率很高。如它可将波长十分接近的 VK(0.228434nm)、CrK1(0.228962nm)和CrK2(0.

10、229351nm)3根谱线清 晰地分开。 p但由于结构的特点,谱仪要想有足够的色散率,聚焦圆的半径就要足 够大,这时弯晶离X射线光源的距离就会变大,它对X射线光源所张 的立体角就会很小,因此对X射线光源发射的X射线光量子的收集率 也就会很低,致使X射线信号的利用率极低。 p此外,由于经过晶体衍射后,强度损失很大,所以,波谱仪难以在低 束流和低激发强度下使用,这是波谱仪的两个缺点。 (a)能谱曲线;(b)波谱曲线 能谱议和波谱仪的谱线比较 电子探针分析的基本工作方式 p一是定点分析,即对样品表面选定微区作定点的全谱扫描,进行定性 或半定量分析,并对其所含元素的质量分数进行定量分析; p二是线扫描

11、分析,即电子束沿样品表面选定的直线轨迹进行所含元素 质量分数的定性或半定量分析; p三是面扫描分析,即电子束在样品表面作光栅式面扫描,以特定元素 的X射线的信号强度调制阴极射线管荧光屏的亮度,获得该元素质量 分数分布的扫描图像。 p下图给出了ZrO2(Y2O3)陶瓷析出相与基体定点成分分析结果,可见 析出相(t相)Y2O3含量低,而基体(c相)Y2O3含量高,这和相图是相 符合的。 ZrO2(Y2O3)陶瓷析出相与基体的定点分析(图中数字为Y2O3mol%) p下图给出BaF2晶界线扫描分析的例子,图(a)为BaF2晶界的形貌像和 线扫描分析的位置,图(b)为O和Ba元素沿图(a)直线位置上的分布, 可见在晶界上有O的偏聚。 BaF2晶界的线扫描分析 (a)形貌像及扫描线位置;(b)O及Ba元素在扫描线位置上的分布 p下图给出ZnO-Bi2O3陶瓷试样烧结自然表面的面分布分析结果,可以 看出Bi在晶界上有严重偏聚。 pZnO-Bi2O3陶瓷烧结表面的面分布成分分析 (a)形貌像;(b)Bi元素的X射线面分布像 Preparation of nanotube-shaped TiO2 powder

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