电子技术基础(模拟部分)第五版_第5章教材

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1、5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管 5.3 结型场效应管(JFET) *5.4 砷化镓金属-半导体场效应管 5.5 各种放大器件电路性能比较 5.2 MOSFET放大电路 1 1 本章介绍除BJT之外另一种主要类型的三段放大器件:场 效应管(FET)。FET有两种主要类型:金属-氧化物-半 导体场效应管(MOSFET)和结型场效应管(JFET)。 2 2 P沟道 耗尽型 P沟道 P沟道 N沟道 增强型 N沟道 N沟道 (耗尽型) FET 场效应管 JFET 结型 MOSFET 绝缘栅型 (IGFET) 耗尽型:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在 增强型:场效应管没有加偏置电

2、压时,没有导电沟道 场效应管的分类: 3 3 5.1 金属-氧化物-半导体 (MOS)场效应管 5.1.1 N沟道增强型MOSFET 5.1.5 MOSFET的主要参数 5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET 5.1.3 P沟道MOSFET 5.1.4 沟道长度调制效应 4 4 5.1.1 N沟道增强型MOSFET 1. 结构(N沟道) L :沟道长度W :沟道宽度tox :绝缘层厚度 通常 W L 5 5 5.1.1 N沟道增强型MOSFET 剖面图 1. 结构(N沟道) 符号 6 6 5.1.1 N沟道增强型MOSFET 2. 工作原理 (1)vGS对沟道的控制作用 当vGS0时 无导电沟道

3、, d、s间加电压时,也无 电流产生。 当0VT )时 , vDS ID 沟道电位梯度 整个沟道呈楔形分布 8 8 当vGS一定(vGS VT )时, vDS ID 沟道电位梯度 当vDS增加到使vGD=VT 时,在 紧靠漏极处出现预夹断。 2. 工作原理 (2)vDS对沟道的控制作用 在预夹断处:vGD=vGS-vDS =VT 9 9 预夹断后,vDS 夹断区延长 沟道电阻 ID基本不变 2. 工作原理 (2)vDS对沟道的控制作用 1010 2. 工作原理 (3) vDS和vGS同时作用时 vDS一定,vGS变化时 给定一个vGS ,就有一条不同的iD vDS 曲线。 1111 3. V-

4、I 特性曲线及大信号特性方程 (1)输出特性及大信号特性方程 截止区 当vGSVT时,导电沟道尚 未形成,iD0,为截止工 作状态。 1212 3. V-I 特性曲线及大信号特性方程 (1)输出特性及大信号特性方程 可变电阻区 vDS(vGSVT) 由于vDS较小,可近似为 rdso是一个受vGS控制的可变电阻 1313 3. V-I 特性曲线及大信号特性方程 (1)输出特性及大信号特性方程 可变电阻区 n :反型层中电子迁移率 Cox :栅极(与衬底间)氧 化层单位面积电容 本征电导因子 其中 Kn为电导常数,单位:mA/V2 1414 3. V-I 特性曲线及大信号特性方程 (1)输出特性

5、及大信号特性方程 饱和区 (恒流区又称放大区) vGS V T ,且vDS(vGSVT) 是vGS2VT时的iD V-I 特性: 1515 由于FET是电压控制器件,栅极输入端基本没有电流 ,因此跟BJT不一样,讨论它的输入特性是没有意义 的。 3. V-I 特性曲线及大信号特性方程 (2)转移特性 所谓转移特性是在漏源电压vDS一定的条件下,栅源电 压vGS对漏极电流iD的控制特性,即 1616 3. V-I 特性曲线及大信号特性方程 (2)转移特性 由输出特性 曲线得到 1717 也可以根据 (式5.1.6)直接画出。 由此可知,这是一条二次曲线,而BJT的输入特性,iC与 vBE是指数关

6、系,因此MOS管的转移特性比BJT的输入特性线 性要好。 1818 5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET 1. 结构和工作原理(N沟道) 二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子,即使vGS=0时,由 于正离子的作用,也和增强型接入栅源电压使得vGSVT相 似,在P型衬底上感应出N型导电沟道。 1919 当vGS0时,沟道中感应出更多负电荷,沟道变宽,在vDS 作用下,iD将更大。因为栅极绝缘层的存在,并不会产生栅极 电流iG。 当vGS0时,沟道中负电荷变少,沟道变窄,则iD变小。到 vGS为负电压到达一定值的时候,沟道完全间断,即使有vDS, 也没有漏电流,此时为夹断电压(截止电压)Vp。 因此,

7、耗尽型MOSFET可以在正或负的栅源电压下工作,而 且基本上无栅流。 2020 5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET 2. V-I 特性曲线及大信号特性方程 耗尽型MOS管特性曲线与增强型的类似,不同的是前者 夹断电压VP为负值,后者开启电压VT为正值。 2121 在饱和区内 当VGS=0,vDSvGS-VP时 ,由(式5.1.6) VT用VP取代 则5.1.6式改为 IDSS的物 理意义 2222 5.1.3 P沟道MOSFET 2323 5.1.4 沟道长度调制效应 实际上饱和区的曲线并 不是平坦的 实际MOS管在饱和区的输出特性曲线还应考虑vDS对沟道 长度L的调制作用,当vGS固定,v

8、DS增加时,iD会由所增加 。 输出特性的每根曲线都会向上倾 斜,因此用沟道长度调制参数 对输出特性的公式进行修正: 2424 5.1.4 沟道长度调制效应 L的单位为m 当不考虑沟道调制效应时,0,曲线是平坦的。 1/的物 理意义 2525 5.1.5 MOSFET的主要参数 一、直流参数 1. 开启电压VT (增强型参数) 2. 夹断电压VP (耗尽型参数) 3. 饱和漏电流IDSS (耗尽型参数) 在转移特性上,就是vGS=0时的漏极电流。 4. 直流输入电阻RGS (1091015 ) 在漏源之间短路条件下,栅源之间加一定电 压时的栅源直流电阻就是直流输入电阻RGS 。 2626 NM

9、OS增强型 二、交流参数 1. 输出电阻rds 当不考虑沟道调制效应时,0,rds 输出电阻rds说明了vDS对iD的影响,是 输出特性某一点上切线斜率的倒数。 2727 5.1.5 MOSFET的主要参数 2. 低频互导gm 二、交流参数 考虑到 则 其中 2828 5.1.5 MOSFET的主要参数 三、极限参数 1. 最大漏极电流IDM 管子正常工作时的漏极电流允许的上限值。 2. 最大耗散功率PDM FET的耗散功率PDM=vDSiD。这些功耗使得管子发热,所以 要限制它的耗散功率不能超过最大数值PDM。 3. 最大漏源电压V(BR)DS 指发生雪崩击穿,iD开始急剧上升时的vDS值。

10、 4. 最大栅源电压V(BR)GS 栅源之间反向电路急剧上升时的vGS值。 2929 5.2 MOSFET放大电路 5.2.1 MOSFET放大电路 1. 直流偏置及静态工作点的计算 2. 图解分析 3. 小信号模型分析 3030 5.2.1 MOSFET放大电路 1. 直流偏置及静态工作点的计算 由FET组成的放大电路和BJT一样,要建立合适的静 态工作点。所不同的是,FET是电压控制器件,因此它 需要有合适的栅极-源极电压。 3131 5.2.1 MOSFET放大电路 1. 直流偏置及静态工作点的计算 (1)简单的共源极放大电路(N沟道) 直流通路共源极放大电路 3232 5.2.1 MO

11、SFET放大电路 1. 直流偏置及静态工作点的计算 (1)简单的共源极放大电路(N沟道) 假设工作在饱和区,即 验证是否满足 如果不满足,则说明假设错误 须满足VGS VT ,否则工作在截止区 再假设工作在可变电阻区 即 3333 假设工作在饱和区 满足假设成立,结果即为所求。 解: 例:设Rg1=60k,Rg2=40k,Rd=15k, 试计算电路的静态漏极电流IDQ和漏源 电压VDSQ 。 VDD=5V, VT=1V, 3434 5.2.1 MOSFET放大电路 1. 直流偏置及静态工作点的计算 (2)带源极电阻的NMOS共源极放大电路 饱和区 需要验证是否满足 与BJT接入射极电阻类似,

12、在MOS管中接入源极电阻,具 有稳定静态工作点的作用。 3535 5.2.1 MOSFET放大电路 1. 直流偏置及静态工作点的计算 静态时,vI0,VG 0,ID I 电流源偏置 VS VG VGS (饱和区) 分析右图电流源提供偏置的NMOS 共源极放大电路的静态工作点 3636 5.2.1 MOSFET放大电路 2. 图解分析 图为共源极放大电路,VGGVT,使 得FET工作在饱和状态,VDD足够大。 Rd的作用是将漏极电流iD的变化转 换成vDS的变化,从而实现电压放大。 由于负载开路,交流负 载线与直流负载线相同 3737 5.2.1 MOSFET放大电路 2. 图解分析 首先令vi

13、=0,由vGS=VGG,找 到输出特性曲线上的iD,然后做 负载线vDS=VDD-iDRd,交点就是 静态工作点Q(IDQ,VDSQ)。 当vi0,vGS=VGS+vgs(vi),则 相应产生iD=IDQ+id和vDS=VDSQ+vds变 化量。通常vds远大于vgs(vi),从 而实现了电压的放大。 3838 5.2.1 MOSFET放大电路 3. 小信号模型分析 (1)模型FET工作在饱和区,将其看成一个双口网络 IDQ为静态工作点; gmvgs漏极信号电流与vgs成线性关系,为交流项; Knvgs2为非线性失真,信号产生的谐波项。 3939 第三项必须远小于第二项,才满足线性放大器的小信

14、号的条 件,即vgs2(VGSQ-VT),(参考: ) 。 5.2.1 MOSFET放大电路 3. 小信号模型分析 4040 5.2.1 MOSFET放大电路 3. 小信号模型分析 (1)低频小信号模型 考虑到NMOS管的iG=0,栅极-源极间的电阻很大,可以 看成开路,而由id=gmvgs,则得到如图的低频小信号模型 。 4141 5.2.1 MOSFET放大电路 3. 小信号模型分析 (1)低频小信号模型 =0时 0时FET的输出电阻 rDS为有限值时的低频小信 号模型。 0时 =0时FET的输出电阻 rDS为无效大时的低频小信 号模型。 4242 5.2.1 MOSFET放大电路 3.

15、小信号模型分析 由于MOS管的源极与衬底相连,因此两者之间无电容。 图中Cgd,Cgs,Cgb分别是栅漏电容,栅源电容和栅极-衬底 电容,Cds是漏源电容。 (1)高频小信号模型 4343 3. 小信号模型分析 解:例5.2.2的直流分析已求得: (2)放大电路分析(例5.2.5) s 求电路模型参数gm 画出小信号模型电路 4444 5.1.5 MOSFET的主要参数 2. 低频互导gm 二、交流参数 考虑到 则 其中 返回 4545 3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.5) s 求电路的Avs、Av、Ri、Ro。 3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.6) 共

16、漏 静态分析,画小信号模型电路 4747 求放大电路增益、信号源增益 。 3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析 4848 求输入电阻 求输出电阻 4949 MOSFET三种基本放大电路的比较 参看表5.2.1 5.3 结型场效应管 5.3.1 JFET的结构和工作原理 5.3.2 JFET的特性曲线及参数 5.3.3 JFET放大电路的小信号模型分析法 5050 5.3.1 JFET的结构和工作原理 1. 结构 在一块N型半导体材料两边扩散 高浓度的两边扩散高浓度的P型区 ,形成两个PN结。两边P+型区引出 两个电极,分别称为源极S和漏极d 。两个PN结中间的N型区域称为导 电沟道。因此称为N型沟道JFET。 5151 5.3.1 JFET的结构和工作原理 1. 结构 左图是它的符号,箭头的方向表示 栅结正向偏置,栅极电流的方向是 由P指向N,从符号可以识别d、s之 间是N沟道

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