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工艺故障排除指南多单晶硅太阳电池工 序故障表现诊 断措 施PECVD整体镀膜颜色不符要求氮化硅层厚度偏离正常厚度调整带速至颜色符合要求，偏蓝升高带速，偏红降低带速石墨托盘两边和中间镀膜颜色有差异两边和中间沉积速率不同调节两边微波峰值功率或Ton,Toff使镀膜均匀。部分气孔堵塞用N2吹扫15-30分钟，严重的要打开腔室手工透孔。镀膜颜色不稳定微波反射功率异常，或用微波检漏仪检测有泄漏关闭工艺，重新安装微波天线或换管沉压后颜色异常折射率不在1.9-2.1范围内调整NH3和SiH4流量比例和总流量时折射率达到要求膜层颜色黯淡无光泽反应腔室漏气或气压偏高通知设备人员检修SiH4流量过高降低SiH4流量，但要保证折射率正常。
