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1、扫描电子显微分析,扫描电子显微统几乎广泛应用于各个领域：材料、冶金、矿物、半导体，生物医学、物理、化学等学科，其原因是它具有下列主要特点： (1)分辨本领高，二次电子像的分辨率达3nm（钨灯丝）0.5nm (Titachi S5200)。 (2)放大倍率可以方便地在20倍至20万倍左右的范围连续变化得到高亮度的清晰图像。 (3)景深长，视野大，成像富有立体感，可以直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构。 (4)试样制备简单。金属等导电的试样可以直接放入扫描电子显微镜中观察。对非导电的试样，可以在真空中将表面喷涂一层金属薄膜，或在较低的加速电压下直接观察。 日前的扫描电子显微镜都配有X射线能谱仪
2、装置， 还可装有电子背散射衍射装置（EBSD），这样可以同时进行显微组织形貌的观察、微区成分分析以及晶体结构分析。因此，它像透射电子显微镜一样，是当今十分有用的科学研究仪器之一,场发射扫描电子显微镜,JSM-6500F,FEI Nova NanoSEM,ZEISS SUPRA55,成像原理 聚细电子束(110nm)扫描样品表面，激发产生多种电子和光子信号。信号被收集、检测、放大，在CRT上调制成像。 工作模式成像方式: 二次电子像（SE）、背散射电子像（BSE）、 吸收电子像（AE）、阴级荧光像（CL）、 电子束感生电流像（EBIC） 分析方式： 元素分析（EDS） 晶体学分析（EBSD）,电
3、子与样品的相互作用,弹性散射 入射电子受到试样中单个孤立的原子核库仑场的作用，由于电子的质量比原子核小得多，一般只引起电子运动方向的改变，而无能量的损失。 非弹性散射 入射电子与试样中原子核外的一个孤立的电子发生碰撞时，由于两者质量相等，不仅引起入射电子运动方向的改变，而且引起能量的损失。损失的能量主要转变为热，还要引起核外电子的激发或电离、价电子云集体振荡等物理效应。,固体样品受入射电子激发产生的 主要物理信号,高能入射电子束照射到固体样品上，与样品中原子相互作用，产生各种信号。在扫描电子显微镜中，用来成像的信号主要是二次电子，其次是背散射电子和吸收电子。用来分析成分的信号主要是x射线和俄歇
4、电子，用这两种信号的能量直接表征元素的性质。,1二次电子 入射电子与样品内原子核外层电子发生非弹性散射时，使一部分核外电子获得能量逸出样品表面，这些电子称为二次电子。 由于价电子结合能很小，对于金属来说大致在10ev左右。因此二次电子能量比较低，一般小于50eV，大部分在23eV之间。在入射电子与样品中原子的相互作用过程中，其他方式也能产生逸出表面的低能量电子，它们与二次电子是不能区分的，因此，习惯上把样品上方检测到的、能量小于50eV的自由电子都称为二次电子（价电子电离占总数的90%）。 二次电子对试样的表面状态敏感，适合对表面形貌观察。,2背散射电子 入射电子在样品中受原子核卢瑟福散射后，
5、被原子反射出样品表面的一部分电子，它们能量损失很小，其能量值接近入射电子。但相对于二次电子的划分通常把能量大于50eV的电子通称为背散射电子，包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。弹性背散射电子是只受原子核的一次或很少几次大角度散射即被反射回来的电子，能量不变或变化很少。绝大多数背散射电子都是弹性背散射电子。 样品的平均原子序数越高，背散射电子越多。所以可显示试样的元素分布和形貌原子序数衬度。,3吸收电子 随着入射电子与样品中原子发生非弹性散射次数增多，其能量损失殆尽，不能再逸出表面，这部分就是吸收电子，如果样品与地之间接上一个高灵敏的电流放大器，所检测到的电流信号，就是吸收电子或称样品吸收电
6、流信号。 设入射电子流为Ii，总背散射电子流（二次电子与背散射电子之和）为Ib，则吸收电流为： Ia= Ii Ib 所以吸收电流象衬度与背散射电子、二次电子等象的衬度相反。可以显示试样元素分布和表面形貌，尤其是试样裂缝内部的微观形貌。,4特征x射线 特征x射线是原子的内层电子受到激发后，在电子跃迁过程直接释放出的一种具有特征能量和波长的电磁辐射波。 当入射电子照射到固体样品上，若使样品内原子的内层电子激发，这时原子由基态变为不稳定激发态，外层电子就要向内层电子空位方向跃迁，在能级跃迁过程中可直接释放出具有特征能量和波长的x射线。,如果K内层电子被激发，L2层(L层中的某一亚层)电子向K层跃迁，
7、那么所释放的x射线的特征能量就等于两能级的能量差：E=EK-EL2。这样的辐射称为 K2 辐射。,此时x射线的波长 K2=hc/ E 式中，h普朗克常数，c光速 由于对一定的元素， E有确定的特征值，所以发射的x射线波长也有特征值，叫做特征x射线，这表明特征x射线的波长或光子能量E （E就是相应跃迁过程始、终态的能量差E ）是不同元素的特征之一。,5俄歇电子 上述的L2层电子跃迁到K层后，释放出的能量EK-EL2除可以以x射线的形式释放外，还能以另一种形式释放，该能量可将核外另一电子打出，该电子脱离原子后成为具有特征能量的电子俄歇电子。 对于不同的元索有它自己特定的能量值。 K L2 L2俄歇
8、电子产生过程：入射电子使K层一个电子激发， L2层一个电子跃迁到K层，放出能量电子能量E，该能量又使另一个电子激发，并克服逸出功EW而逸出试样表面。所以K L2 L2俄歇电子的能量： E K L2 L2 =EK-EL2-EL2-EW 俄歇电子能量一般为501500eV。轻元素(如Be、O、N、C等)产生俄歇电子的几率高于重元素，同时由于俄歇电子只有在距表层的几个原子层范围内逸出才能维持其特征能量，因此俄歇电子信号适用于样品表面层的成分分析，特别是轻元素。 一个原子中至少要三个电子才能产生俄歇效应，所以Be是产生俄歇效应的最轻元素。,6 电子束感生电效应 这是由半导体材料的特性而产生的。高能量的
9、入射电子进入半导体时，激励电子穿过带隙进入空的导带，其后在满的价带上留下空穴(具有正电荷电子的性质)，产生了电子空穴对。如果在试样上附加一偏加电场，由于电子和空穴分别携带着负、正电荷，在外电场的作用下向着相反的方向迁移，样品中这种电荷的迁移使外部附加回路中产生电流，将电子束感生电流放大用于成像，就产生了一个新的十分有用的成像模式，反映了在电子束作用下半导体样品导电性的变化。电子空穴对移动时，遇到某种障碍（如位错附近杂质原子聚集的区域）将形成不同的电位，为束感应电压信号。 电子束感应电效应对半导体材料和完整的固体电路的研究很有用。,7阴极荧光 上述电子空穴对复合时释放的能量，其中一部分以可见光或
10、电磁波中的红外线从试样中辐射出来，这种光发射称作阴极发光。如同其它成像模式一样，阴极发光也可以收集和放大用于成像，但阴极发光的光子产额很低，所以光信号很弱，必须采用最佳的光学收集系统。阴极发光的总的光强度随着半导体中掺杂水平单值地变化在几个数量级以上，为监控半导体材料中的掺杂提供了精确、便利的工具。,右图是具有应变诱发位错的GaAs晶体阴极发光图，在图中应变诱发位错为暗线,电子束作用体积和激发信号深度,高能入射电子束 进入样品底与样品中的原子相互作用后可产生各种物理信号，利用这些信号可以获得关于样品的某些信息。各种信号在样品中约分布情况，即信息源的大小是各不相同的，定性地了解这一点，对正确利用
11、各种信号是极为重要的。 经聚焦的高能入射电子受到样品中原子多次(几十，几百次)散射后，由于散射的累加，使电子偏离原入射方向，即入射电子束在样品中会扩展。（1）入射电子束在样品中穿透的深度正比于它们的能量和反比于样品原子序数。（2）入射电子在样品中扩展后的形状仅取决于样品的原子序数，（3）其本身的能量(与加速电压有关)仅改变扩展的大小。,入射电子束在样品中的扩展,Material: Al Simulation: Monte Carlo Method,块状样品,薄膜样品,对于轻元素样品，由于轻元素原子对入射电子的散射能力较小，入射电子经过许多次小角度散射，在尚未达到较大散射角之前已深入到样品内部的
12、一定的深度，然后随散射次数的增多，散射角增大。到达一定深度，电子在各个方向散射几率相等，称为漫散射。因此，电子束激发体积形状像“梨形”。对于重元素，入射电子在样品表面不很深的地方就达到漫散射的程度，则电子束激发体积形状，呈“半球形”。,入射电子束在它的整个样品激发体积内均有可能产生各种信号，但由于各种信号所具有的能量不同和样品对信号的阻挡能力不同，决定了它们能逸出表面的深度和广度。,扫描电子显微镜的工作原理,SEM同时采用两个电子束，一电子束轰击试验的试样，而另一束轰击供操作者观察的显像管。入射电子轰击试样产生各种电子和光子发射，选择一种信号经收集、检测和放大后，用来调制第二电子束的亮度。,这
13、样，收集到一个强信号在显像管上产生一个亮斑点，同时一个弱信号则产生一个暗斑点，两个电子束的同步扫描使试样上扫描到的每一个点在显像管上有一个相应的斑点。,如果显像管上显示区的大小是AA试样上扫描区的大小是BB，则放大倍率为A/B。无需任何成像透镜就产生了试样的一个放大图像，放大倍率连续可调，而且很容易。,扫描电子显微镜的构造,1、电子光学系统(镜筒) 2、信号检测放大系统 3、图像显示和记录系统4、电源系统 5、真空系统,1电子光学系统 电子光学系统由电子枪、聚光镜、扫描线圈、光栏、样品室等部件组成。用来获得扫描电子束，作为使样品产生各种物理信号的激发源。 电子枪：钨灯丝，LaB6，场发射。应具
14、有较高的亮度和尽可能小的束斑直径 聚光镜：把电子枪发射的电子聚焦，在样品上得到小于3nm甚至0.3nm的电子束斑。 扫描线圈：提供入射电子束在样品表面上及显像管电子束在荧光屏上的同步扫描信号；改变入射电子束在样品表面扫描振幅，获得所需放大倍率的扫描像。 样品室：主要部件之一是样品台。它除了能进行三维空间的移动、倾斜和转动外， 样品台还可带有多种附件，如加热、冷却，或拉伸等，可进行动态观察。,钨灯丝 (W Filament) LaB6 (LaB6) 场发射 (FE) - 冷场发射(Cold-FE) - 热场发射(Thermal-FE),电子枪类型：,电子枪 扫描像分辨率主要取决于电子束亮度 &
15、束斑尺寸,外加电场下金属表面的势能曲线,电子逸出金属表面所要克服的势垒形状发生变化,场发射扫描电镜（FE-SEM）的特点： 图像分辨率高,低电压下仍保持高的图像分辨率，是理想电子源。 2. 直接观察非导体样品(加速电压样品平衡态电压时即可消除电荷效应) 3. 场发射枪光源小，易受环境振动和杂散磁场影响，对环境要求严格。 4. Schottky热场发射源：束流大、亮度高、稳定性高，更适于晶体学取向(EBSD)、元素分析(EDS)和阴极荧光成像(CL)。 5. 冷场发射源：发散角小、束流相干性好，稳定性较差，需要除气（flash），更适于高分辨成像。,信号检测放大系统 检测样品在入射电子作用下产生
16、的物理信号，然后经视频放大，作为显像系统的调制信号，不同的物理信号，要用不同类型的检测系统。它大致可分为三类，即电子检测器，阴极荧光检测器和x射线检测器。 电子检测器(闪烁检测器)由闪烁体，光导管和光电倍增器所组成。 阴极荧光检测器由光谱仪、光导管和光电倍增器所组成。 x射线检测器有能谱仪和波谱仪。,SE-Detector for Secondary electron BSE-Detector for Backscattered electron EDS-Detector for X-rays EBSD-Detector for Backscattered diffraction electrons,Various Detectors for different signals,闪烁体-光电倍增管探测器：探测SE、BES信号 SE：+ 10 V; BSE：- 15 - 300 V,特点：低噪声、宽频带（10Hz 1MHz）、高增益（106）,在扫描电子显微镜中最普遍使用的电子
