《半导体电子化学品行业深度：新起点新技术新企业新机遇_精编》由会员分享，可在线阅读，更多相关《半导体电子化学品行业深度：新起点新技术新企业新机遇_精编（41页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 证券研究报告证券研究报告/ /行业深度行业深度报告报告 20172017 年年 1111 月月 0101 日日 化工新材料 半导体电子化学品行业深度半导体电子化学品行业深度 新起点，新技术，新企业，新机遇 评级：增持（首次）评级：增持（首次） 分析师：王席鑫分析师：王席鑫 执业证书编号：执业证书编号：S0740517010008 电话：021-20315135 Email：wangxx： 基本状况基本状况 上市公司数 0 行业总市值(百万元) 0 行业流通市值(百万元) 0 行业行业- -市场走势对比市场走势对比 (6%) (
2、1%) 3% 8% 12% 16% 7/28/16 8/23/16 9/19/16 10/18/16 11/9/16 12/1/16 12/30/16 1/24/17 2/22/17 3/16/17 4/11/17 5/4/17 5/26/17 6/21/17 7/14/17 化工沪深300 相关报告相关报告 投资要点投资要点 本篇报告将站在全球电子化学品产业演变和竞争模式演变视角分析中国电 子化学品行业，挖掘电子化学品行业投资价值。我们将重新审视中国电子 化学品行业竞争优势和全球地位，并在比较分析中挖掘具备投资价值的子 行业和上市公司。 新起点新起点：随着国家支持半导体集成电路产业，加快建设
3、国内半导体晶圆厂， 国内半导体电子化学品企业将成为支撑半导体集成电路国产化的重要力 量。半导体芯片制造产业上游原材料供应电子化学品行业更是直接受益的 对象； 新技术新技术：技术升级是电子化学品的主题，而芯片制造工艺升级、环保压力、 芯片制造企业产能提升则是技术升级的主题。 国内 8 英寸和 12 英寸芯片生 产企业，液晶面板企业，芯片封装企业将成为技术升级的主导者，将带动 半导体设备厂商和上游电子化学品原材料厂商的业绩增长； 新企业新企业：从全球比较的角度，中国电子化学品上市公司的成长性上更胜一 筹；而纵向比较，上市公司在产品高纯试剂技术、国内半导体芯片制造， 液晶平板制造，芯片生产企业客户方
4、面获得新的突破；随着大量优质新股、 次新股的上市，行业整体质量有所提升，行业投资价值显现； 新机遇新机遇：全球半导体集成电路产业转移和国家政策扶持将成为电子化学品 行业发展的助推力，半导体芯片制造，液晶面板制造，芯片封装制造企业 对于国产化材料进口替代的需求， 对电子化学品行业将获得新的发展机遇。 针对针对电子化学品技术壁垒高和环保检查力度大带来的隐忧， 我们以新起点电子化学品技术壁垒高和环保检查力度大带来的隐忧， 我们以新起点、 新技术、新企业为线索，将电子新技术、新企业为线索，将电子化学品化学品行业投资标的分为三类行业投资标的分为三类:针对电子化 学品技术壁垒和环保检查力度大带来的隐忧，我
5、们以新市场、新技术、新 企业为线索，将电子化学品行业投资标的分为三类:1、国内下游芯片制造 市场提供产业链支持，技术升级实现进口替代； 2、将电子化学品与供应 设备端结合，将价值向供应链延伸,在行业应用中体现投资价值；3、我们 仍然看好通过企业技术研发和产业并购实现技术突破，进入国际芯片制造 厂商供应体系的企业的长期投资价值；长期的看，对中国电子化学品企业 所面向国内的大市场来说，需求不是根本，企业整体技术竞争力的提高是 挖掘电子化学品行业上市公司投资价值的主轴。 风险风险提示提示： 1.国内半导体晶圆建设推进力度不打预期， 2.国内半导体材料企 业研发和生产进度不达预期。 请务必阅读正文之后
6、的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 - 2 - 行业深度行业深度研究研究 内容目录内容目录 1、新起点：国内集成电路产业大发展、新起点：国内集成电路产业大发展 - 6 - 1.1 国内市场需求支撑半导体行业发展 . - 6 - 1.2 国内电子产业链需求 - 8 - 1.3 国内半导体材料的需求 - 10 - 2、新技术新技术: 电子化学品制程工艺推进电子化学品制程工艺推进是主旋律是主旋律 . - 11 - 2.1 半导体硅片生产需求的电子化学品 . - 12 - 2.2 芯片光刻工艺（PHOTO）需求的电子化学品 - 15 - 2.3 芯片蚀刻工艺（ETCH）需求的电子化学品 -
7、 20 - 2.4 芯片薄膜工艺（CVD&PVD）需求的电子化学品 . - 23 - 2.5 芯片扩散掺杂工艺（DIFF）需求电子化学品 . - 28 - 2.6 芯片研磨工艺（CMP）需求的电子化学品 - 31 - 2.7 芯片清洗工艺（Clean）需求的电子化学品 . - 34 - 3新企业：上市公司竞争力提升新企业：上市公司竞争力提升 . - 37 - 3.1 以高纯度高可靠产品进入全球芯片企业供应链 . - 37 - 3.2 新的竞争模式与新盈利模式 . - 38 - 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 - 3 - 行业深度行业深度研究研究 图表目录图表目
8、录 图表图表1：全球与国内半导体市场增长数据（亿元）：全球与国内半导体市场增长数据（亿元） . - 6 - 图表图表2：我国集成电路产业销售额增长情况（亿元）：我国集成电路产业销售额增长情况（亿元） - 6 - 图表图表3：中国半导体制造自给率低：中国半导体制造自给率低 . - 6 - 图表图表4：集成电路产业链预测：集成电路产业链预测 - 7 - 图表图表5：中国：中国300mm圆晶月需求估算（圆晶月需求估算（k Wafers） - 7 - 图表图表6：制造业年产值（亿元）：制造业年产值（亿元） - 7 - 图表图表7：中国在建：中国在建&拟建拟建12寸晶圆制造产线情况寸晶圆制造产线情况 -
9、 8 - 图表图表8：中国整机制造商消费的芯片（十亿美金）：中国整机制造商消费的芯片（十亿美金） . - 9 - 图表图表9：制造终端电子产品占全球比重：制造终端电子产品占全球比重 . - 9 - 图表图表10：主要下游行业中国占全球比重：主要下游行业中国占全球比重 . - 9 - 图表图表11：全球一体机电脑：全球一体机电脑(AIO PC)出货量（万台）出货量（万台） . - 9 - 图图表表12：全球：全球(IDC)智能手机出货量（百万台）智能手机出货量（百万台） . - 9 - 图表图表13：2011-2015我国集成电路产业固定资产投资我国集成电路产业固定资产投资 - 10 - 图表图
10、表14：我国半导体市场需求占全球比重：我国半导体市场需求占全球比重 - 10 - 图表图表15：2015-2016半导体材料制造商（十亿美金）半导体材料制造商（十亿美金） - 10 - 图表图表16：中国半导体材料需求（亿美元）：中国半导体材料需求（亿美元） - 10 - 图表图表17： 2015年各地区半导体材料市场规模（亿美元）年各地区半导体材料市场规模（亿美元） . - 11 - 图表图表18：2014年全球集成电路代工业各种制程市场占比情况年全球集成电路代工业各种制程市场占比情况 - 11 - 图表图表19：半导体芯片制造工艺：半导体芯片制造工艺 - 12 - 图表图表20：半导体制造
11、电子化学品国外供应商半导体制造电子化学品国外供应商 - 12 - 图表图表21：单晶硅晶柱生产工艺和晶圆加工制造工艺：单晶硅晶柱生产工艺和晶圆加工制造工艺 - 13 - 图表图表22：300毫米硅片生产工艺流程毫米硅片生产工艺流程 . - 13 - 图表图表23：2008-2020全球半导体硅片市场规模（亿美元）全球半导体硅片市场规模（亿美元） . - 14 - 图表图表24：2008-2020全球全球IC市场规模（十亿美元）市场规模（十亿美元） - 14 - 图表图表25：2015年全球前年全球前10大半导体硅片企业（亿美元）大半导体硅片企业（亿美元） - 15 - 图表图表26：2015年
12、前六大半导体硅片厂份额达年前六大半导体硅片厂份额达92% . - 15 - 图表图表27：光刻机镜头组建示意图：光刻机镜头组建示意图 - 15 - 图表图表28：光刻机原理：光刻机原理图图 . - 15 - 图表图表29：涂胶并烘干：涂胶并烘干 - 16 - 图表图表30：曝光：曝光 . - 16 - 图表图表31：显影：显影 . - 16 - 图表图表32：下一道工艺涂胶：下一道工艺涂胶 . - 16 - 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 - 4 - 行业深度行业深度研究研究 图表图表33：曝光：曝光 . - 16 - 图表图表34：检测：检测 . - 16
13、- 图表图表35：匀胶显影设备和光刻设备：匀胶显影设备和光刻设备 . - 17 - 图表图表36：光刻设备价格等价物：光刻设备价格等价物 - 17 - 图表图表37：光刻胶发展的趋势：光刻胶发展的趋势 . - 17 - 图表图表38：光刻工艺中常用的化学溶剂：光刻工艺中常用的化学溶剂 . - 18 - 图表图表39：光刻工艺过程会用到电子化学品：光刻工艺过程会用到电子化学品： - 19 - 图表图表40：掩模板的技术线路图：掩模板的技术线路图 - 19 - 图表图表41：Photo Resist光刻胶市场规模光刻胶市场规模 - 19 - 图表图表42：Photo Mask光罩光罩/掩模市场（掩
14、模市场（$mn） - 19 - 图表图表43：三层材料返工的工艺流程：三层材料返工的工艺流程 . - 20 - 图表图表44：蚀刻装备发展趋势：蚀刻装备发展趋势 . - 20 - 图表图表45：等离子蚀刻设备：等离子蚀刻设备 . - 20 - 图表图表46：蚀刻技术：蚀刻技术 - 21 - 图表图表47：蚀刻速率：蚀刻速率 - 21 - 图表图表48：固体：固体蚀刻气体列表蚀刻气体列表 - 21 - 图表图表49：等离子蚀刻使：等离子蚀刻使用的化学品列表用的化学品列表 . - 22 - 图表图表50：等离子增强蚀刻中添加的气体：等离子增强蚀刻中添加的气体 . - 22 - 图表图表51：Gas
15、对对E/R的影响的影响 - 23 - 图表图表52：薄膜工艺气相沉积：薄膜工艺气相沉积 . - 23 - 图表图表53：CVD工艺分类工艺分类 . - 24 - 图表图表54：金属薄膜沉积的方法的比较：金属薄膜沉积的方法的比较 . - 24 - 图表图表55：半导体中常用金属和硅化物的物理性质：半导体中常用金属和硅化物的物理性质 . - 25 - 图表图表56：半导体芯片溅射靶材：半导体芯片溅射靶材 - 26 - 图表图表57：溅射靶材工作原理示意图：溅射靶材工作原理示意图 . - 26 - 图表图表58：高纯溅射靶材产业链（上）：高纯溅射靶材产业链（上） . - 26 - 图表图表59：高纯
16、溅射靶材产业链（下）：高纯溅射靶材产业链（下） . - 26 - 图表图表60：行业内主要企业营业收入对比（亿美元）：行业内主要企业营业收入对比（亿美元） - 27 - 图表图表61：两种掺杂方法的比较：两种掺杂方法的比较-扩散扩散 . - 28 - 图表图表62：两种掺杂方法的比较：两种掺杂方法的比较-；离子注入；离子注入 . - 28 - 图表图表63：扩散炉示意图：扩散炉示意图 . - 28 - 图表图表64：扩散与离子注入的比较图：扩散与离子注入的比较图 . - 29 - 图表图表65：离子注入与扩散的比较表：离子注入与扩散的比较表 . - 29 - 图表图表66：真空控制系统：真空控制系统 . - 29 - 图表图表67：PMOS&NMOS - 29 - 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 - 5 - 行业深度行业深度研究研究 图表图表68：设备归类：设备归类 - 30 - 图表图表69：扩散源：扩散源 . - 30 - 图表图表70：CMP
