《超高真空磁控溅射镀膜与离子束清洗系统操作规程》由会员分享，可在线阅读，更多相关《超高真空磁控溅射镀膜与离子束清洗系统操作规程（5页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、超高真空磁控溅射镀膜与离子束清洗系统操作规程一开机1 分子泵、各磁控靶接通冷却水，检查水路是否漏水。2 各单元电源与总电源接通，总电源供电。 （启动总电源前，报警选择档指向报警；开总电源后，A、B、C 灯亮）3 启动机械泵，缓慢打开旁抽阀 V2，预抽溅射室。4 打开 ZDF2AK 复合真空计，当示数显示小于 5 Pa 时，关闭旁抽阀V2，打开电磁阀(有清脆的响声)，然后启动分子泵开关，待示数显示为零时，启动 START，并马上打开闸板阀 G1（逆时针旋转到底后稍微回转） ，开始抽高真空。5 打开计算机，进行运行参数设置。 （见后面介绍）6 达到所需真空度后，准备镀膜。 （见后面介绍）7 镀膜完
2、毕后，关闭直流或射频电源，关气路。 （见后面介绍）二、靶位自动调节程序1 挡板控制及状态 各靶挡板显示与溅射室内靶挡板位置一致。若不一致，则改变计算机上显示状态，点击“开（关） ”按钮即可，在挡板没有达到相应的“开（关） ”状态时，该按钮是闪烁的，达到所需状态时，按钮是亮的。2 转盘控制与状态 样品与样品挡板状态 确定显示与当前溅射室内一致，若不一致，则重新标定。例如：当前溅射室内状态为样品 2 对应样品位置 A位，样品挡板显示 A 位，然而计算机显示样品 1 对应样品位置 A位，样品挡板显示 A 位。拖动样品 1 到样品 2，将弹出“样品编号”对话框，点击“否”，则可以重新标定样品编号。重新
3、标定样品挡板，样品位置时也是如此操作。注意：样品位置和样品编号不能同时改变。例如：样品 1 在 A 位置溅射完毕后，需要在 B 位溅射样品 2，则应该先把样品 1 拖到样品 2，将弹出“样品编号”对话框，点击“是” ，可将样品 2 移动到 A 靶位；然后，将样品位置 A 拖到B，将弹出“样品位置”对话框，点击“是” ，可将样品 2 移动到B 靶位。样品速度和挡板速度 公转速度和挡板公转速度均调为 1.0 r/min即可，运行稳定。3 运行设置 点击“修改”按钮，输入控制语句，点击“关闭”按钮，然后点击“运行”按钮，设备将按照设置的语句运行。控制语句介绍：直溅射时使用的关键字是：ta, ta,
4、tc, td, te例 1， for=2；（循环次数为 2 次）ta=20；（在 A 靶溅射 20 秒）tb=50；（在 B 靶溅射 50 秒）tc=30；（在 C 靶溅射 30 秒）next；如果不需要循环时，可省略 for 和 next 语句。共溅射时使用的关键字：c, d, e, cd, ce, de, cde例 1， for=2；（循环次数为 2 次）c=10；（溅射 C 靶 10 秒）cd=20；（同时溅射 C 靶和 D 靶 20 秒）cde=30；（同时溅射 C，D 和 E 靶 30 秒）next；注意：状态为“共溅”时，样品编号和样品位置选择功能无效，需要改变时，要打到“直溅”状
5、态。三、镀膜开始1 通气路：预热质量流量计 5 min，流量计达到关闭档调零，打开气瓶（打开高压阀，逆时针旋转到底，逆时针略开减压阀） ，MFC1（或 MFC2，MFC3，MFC4）开至阀控档，调相应流量计示数到所需流量，开相应气路的进气阀，V4(Ar)，V6(O 2)，混合室内 V7（Ar） ，V8（N 2） ，V9（O 2） ，总开关 V5。2 关闭闸板阀 G1，同时观察真空计示数（闸板阀几乎到关闭状态） ，到起辉压强（35Pa） ，打开各靶对应的直流电源，使靶起辉（这时可能有打火现象，是由于靶材表面不洁或有毛刺所致，属正常现象） ，适当调节 MFC 进气量，使溅射室内压强到所需工作压强。
6、（射频溅射见下面介绍）3 调节不同功率进行预溅射。待辉光正常后，打开挡板，镀膜开始，此后镀膜时间、样品换位均由计算机控制。4 根据需要，样品可选择加热或自转。样品 1 和样品 4 均可加热到500，所有样品均可自转。注意：（1）打开直流电源开关时，确定“电压调节”旋钮处于零位；工作完毕后，将“电压调节”旋钮旋至零。（2）样品自转只能手动不能自动，档位由正转停止反转，不可以由正转反转；“转速调节”旋钮不需要调节，此时自转速度刚好。四、射频溅射1 确认 RF 电源的“电压调节”旋钮处于零位。2 开右侧总控制电源开关，开射频电源（灯丝开关）预热 5 min。3 调节溅射室内真空度使其处于起辉压强范围
7、内（35Pa） ， 按下板压“开”按钮，调“电压调节”旋钮，缓慢调节 RF 匹配器（C1、 C2） ，使得反射功率低于入射功率的 4%以内。即：入射功率尽量大，反射功率尽量小，两指针交点（驻波比）1.7，使靶起辉。4 通过调气体流量，改变真空度到所需工作压强，调节“电压调节”旋钮至所需溅射功率。5 工作完毕，将“电压调节”旋钮旋至零，按下板压“关”按钮，关灯丝开关，关闭电源。五、镀膜完毕1 关闭直流或射频电源，关闭右侧总控制电源。2 关闭各气路的进气阀 V4（V5、V6、V7 、V8、V9） ，然后将质量流量计打到关闭档，关闭 MFC 电源，关气瓶（先关高压阀再关低压阀） 。3 全开闸板阀 G1，抽真空 20-30 min，准备关机。六、关机1 关闭气路各个进气阀 V1、V4、V5、V6，确定旁抽阀 V2 和放气阀 V3 处于关闭状态。2 关闭真空计。3 按分子泵的 STOP，待分子泵的频率下降到 200 Hz 时，关闸板阀G1。4 分子泵频率下降到 100 Hz 时，按 OFF 键，关分子泵电源。5 关闭电磁阀，关闭机械泵。6 关闭总控制电源，关闭冷却水。
